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25%四甲基氢氧化铵

产品描述

公司自主研发低表面张力的显影液配方产品，添加表面活性剂起到润湿光刻胶表面和快速渗入界面的作用，解决因TMAH显影液表面张力较大以及因膨润带来的图案坍塌问题，提升晶制造的良率。该复配技术使用两种表面活性剂，总添加量不到0.025% (进口产品添加量约0.1%)，在满足表面张力的同时，产品金属离子含量没有明显升高，大大保证了产品质量。

       目前公司生产的25%四甲基氢氧化铵(TMAH)产品质量已达到SEMI国际标准G4等级 (金属离子含量低于0.1ppb)，光刻用显影液金属离子含量低于0.03ppb (大部分金属离子达到G5等级)，产品能够满足14nm以下工艺节点制程要求。



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